Target Materialのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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Target Material - メーカー・企業6社の業務用製品ランキング | イプロスものづくり

更新日: 集計期間:Jun 03, 2026~Jun 30, 2026
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

Target Materialのメーカー・企業ランキング

更新日: 集計期間:Jun 03, 2026~Jun 30, 2026
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  1. SPUTTERCORE CO.,LTD. Osaka//Electronic Components and Semiconductors
  2. エムアンドシー Tokyo//Ferrous/Non-ferrous metals
  3. 福建省長汀金龍希土 希土金属事業部 China//Ferrous/Non-ferrous metals
  4. 4 アローズ Kanagawa//Manufacturing and processing contract
  5. 5 MSリサーチ Saitama//Machine elements and parts

Target Materialの製品ランキング

更新日: 集計期間:Jun 03, 2026~Jun 30, 2026
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  1. Sputtering target material エムアンドシー
  2. Polycrystalline silicon (Si) target SPUTTERCORE CO.,LTD.
  3. Target material 福建省長汀金龍希土 希土金属事業部
  4. 4 Target material アローズ
  5. 4 ITO (90:10; 95:5; 97:3...)Low-density ITO Target SPUTTERCORE CO.,LTD.

Target Materialの製品一覧

1~8 件を表示 / 全 8 件

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Various targets, ceramics, equipment modification, coating contract services, etc.

You will gain price competitiveness. You will gain confidence in quality. We will consult on any matter.

We provide various inexpensive evaporation materials and materials in various shapes. We offer ceramic components at low prices that cannot compete domestically. We accept any shape. We provide inexpensive quartz glass materials in various shapes. We undertake the production of vacuum equipment (including electrical systems) and modifications. We accept sampling and contract processing through vacuum deposition, ion plating, and various types of sputtering. We also undertake sampling, contract processing, and complex machining for all types of plating.

  • Processing Contract
  • Vacuum Equipment
  • Target Material

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Polycrystalline silicon (Si) target

Poly-Silicon target supplier, Poly-Si target manufacturer, Multicrystalline silicon target price Used as components in devices such as CVD equipment, annealing furnaces, and diffusion furnaces! Polycrystalline silicon materials suitable for applications requiring high purity and thermal properties!

■ Purity > 99.9999% ■ Density (2.33/cm³) ■ Manufacturing methods: Melting method and sintering method *For more details, please download the PDF or feel free to contact us.

  • Other polymer materials
  • Composite Materials
  • Target Material

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Target material "Sputtering Target"

A must-have item for thin film formation materials with a different level of high purity and high quality!

"Spattering targets" are high-quality thin film formation materials boasting high purity products ranging from 99.5% to 99.999%. Our company can manufacture various spattering targets that match your business needs. From selecting target materials to bonding processing and evaluation, you can leave everything related to spattering targets to us. [Features] ■ High purity products ranging from 99.5% to 99.999% ■ Alloy production is also possible for development purposes ■ Proven track record in manufacturing various types of spattering targets ■ Capable of responding to various requests *For more details, please refer to the PDF document or feel free to contact us.

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Target material

We respond to our customers' diverse needs, including target materials (rare earths)!

Our company, united as one, strives for production in accordance with the goal of "Creating a Bright Future for Tomorrow," responding to customer demands and producing reliable, high-quality rare earth products.

  • Rare metals
  • alloy
  • Non-ferrous metals
  • Target Material

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Target material

We are actively engaged in joint development with our customers to improve product performance.

Our company specializes in proposing target materials that are essential for surface modification of sliding parts exposed to intense friction, as well as for mass production molds for advanced manufacturing processes, including carbide tools and production lines. Among these, we are particularly skilled in targets used in the PVD (Physical Vapor Deposition) method, and we support both arc ion plating and sputtering methods. Please feel free to contact us if you have any inquiries. 【Products We Excel In】 ■ Tungsten Carbide ■ Target Development ■ Anti-adhesion Plates ■ Targets for Low-E Glass *For more details, please download the PDF or feel free to contact us.

  • Other metal materials
  • Target Material

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ITO (90:10; 95:5; 97:3...)Low-density ITO Target

Oxides that can be used as transparent electrodes and to control pixels without compromising the visual information of the screen!

■ Each Ratios (90:10; 95:5; 97:3) ■ Manufacturing method: Powder metallurgy *For more details, please download the PDF or feel free to contact us.

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Sputtering

We deliver target materials for PVD and materials for vacuum deposition in small quantities and with short lead times!

We would like to introduce the "sputtering" products we handle. For target materials, the maximum size for planar types is 2200mm x 2500mm, and for rotary types, it is up to 3800mm in length. We handle various materials, but we are particularly confident in our ability to supply materials that are currently difficult to obtain, such as Hf, Zr, Ta, Nd, Sc, and Sm. 【Benefits of Using Our Products】 ■ Smooth procurement of hard-to-obtain materials ■ Bonding processing support is also available *For more details, please download the PDF or feel free to contact us.

  • Ni.jpg
  • Ta.jpg
  • Other metal materials
  • Other electronic parts
  • Target Material

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Sputtering target material

About sputtering target materials

We offer a variety of sputtering targets, including Cr, Ti, CrAl, WC, and many other materials. We can also accommodate different shapes and dimensions, such as round, plate, and rod shapes, according to our customers' needs. We look forward to your requests.

  • Sputtering Equipment
  • Target Material

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